Isntree - Real Mugwort Calming Clay Mask - Kojąca Maska Glinkowa - 100ml
69,00 zł
Cena brutto
Isntree Mugwort Calming Clay Mask to innowacyjny produkt, który łączy w sobie moc naturalnych składników z zaawansowanymi osiągnięciami koreańskiej kosmetologii. Ta maska glinkowa została stworzona z myślą o osobach borykających się z problemami cery tłustej, mieszanej oraz wrażliwej, oferując kompleksowe rozwiązanie dla skóry narażonej na stres, zanieczyszczenia i agresywne działanie czynników zewnętrznych.
Ocena:
DARMOWA DOSTAWA OD 180 zł
SZYBKA WYSYŁKA
Isntree Mugwort Calming Clay Mask to wyjątkowa maska glinkowa i prawdziwy skarb dla osób borykających się z cerą wrażliwą, tłustą lub mieszaną. Łącząc w sobie moc 6 rodzajów glinek oraz cenne ekstrakty roślinne, zapewnia kompleksową pielęgnację, której Twoja skóra potrzebuje.
Kluczowe składniki i ich działanie:
- Bylica zwyczajna: Łagodzi podrażnienia i działa przeciwzapalnie, przywracając skórze spokój.
- Glinki (kaolin, bentonit i inne): Skutecznie oczyszczają pory i absorbują nadmiar sebum.
- Pantenol: Nawilża i koi, redukując zaczerwienienia.
- Ekstrakt z zielonej herbaty: Dostarcza antyoksydantów, chroniąc skórę przed szkodliwymi czynnikami zewnętrznymi.
- Ekstrakt z kory wierzby: Pomaga w oczyszczaniu gruczołów łojowych i przyspiesza gojenie.
Dlaczego pokochasz tę maskę:
- Delikatnie oczyszcza i odświeża skórę
- Reguluje wydzielanie sebum
- Łagodzi podrażnienia i zaczerwienienia
- Poprawia teksturę skóry, nadając jej gładkość
- Odpowiednia dla wszystkich typów skóry, szczególnie wrażliwej i problematycznej
Dla jakiej cery?
Maska będzie odpowiednia dla skóry tłustej, mieszanej, wrażliwej oraz problematycznej.
| Producent | ISNTREE |
| Nazwa produktu | Mugwort Calming Clay Mask |
| Pojemność | 100 ml |
| Kluczowe składniki | Bylica zwyczajna, Kaolin, Bentonit, Pantenol, Ekstrakt z zielonej herbaty, Ekstrakt z kory wierzby |
| Typ skóry | Wrażliwa, tłusta, mieszana, problematyczna |
| Korzyści | Oczyszczanie, regulacja sebum, łagodzenie podrażnień, poprawa tekstury skóry |
| Konsystencja | Kremowa glinka |
| Kraj pochodzenia | Korea Południowa |
| Dodatkowe cechy | Bez parabenów, delikatna formuła, odpowiednia do regularnego stosowania |
Aqua, Kaolin, Glycerin, Bentonite, Dipropylene Glycol, Stearic Acid, Pantenol, 1,2-Hexanediol, Illite, Artemisia Princeps Leaf Extract, Xantan Gum, Artemisia Princeps Extract, Magnesium Aluminum Silicate, Cetyl Alcohol, Tromethamine, Montmorillonite, Calcite, Methylpropanediol, Algin, Ethylhexylglycerin, Butylene Glycol, Cynara Scolymus Leaf Extract, Avena Sativa Kernel extract, Polyquaternium-51, Camellia Sinensis Leaf Water, Beta-Glucan, Hydrogenated Lecithin, Allantoin, Phaseolus Angularis Seed Powder, Castanea Crenata Shell Extract, Origanum Vulgare Leaf Extract, Salix Alba Bark Extract, Canadian Colloidal Clay, Chamaecyparis Obtusa Leaf Extract, Cinnamonum Cassia Bark Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Lactobacillus/Soybean Ferment Extract, Portulaca Oleracea Extract, Tocopherol.
Informacja dla alergików:
Produkt może zawierać potencjalne alergeny, takie jak ekstrakty roślinne (bylica zwyczajna, zielona herbata, kora wierzby) oraz naturalne glinki. Przed użyciem zaleca się wykonanie próby uczuleniowej na małym fragmencie skóry. W przypadku wystąpienia reakcji alergicznej należy natychmiast przerwać stosowanie i spłukać produkt wodą. Maska nie zawiera parabenów, sztucznych barwników ani silnych konserwantów.
Nałóż równomierną warstwę maski na oczyszczoną twarz, omijając okolice oczu. Pozostaw na 10-15 minut, delikatnie masując wilgotnymi opuszkami palców, aby uniknąć całkowitego wyschnięcia. Spłucz letnią wodą.
Zobacz także
Isntree Mugwort Calming Clay Mask to innowacyjny produkt, który łączy w sobie moc naturalnych składników z zaawansowanymi osiągnięciami koreańskiej kosmetologii. Ta maska glinkowa została stworzona z myślą o osobach borykających się z problemami cery tłustej, mieszanej oraz wrażliwej, oferując kompleksowe rozwiązanie dla skóry narażonej na stres, zanieczyszczenia i agresywne działanie czynników zewnętrznych.